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5G時代的功率放大器革新:揭秘氮化鎵GAN如何引領高效通信

03/11 09:23
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為推動全國5G部署的大規(guī)模MIMO(多輸入多輸出)技術。雖然毫米波頻率應用的潛力最終將得到實現(xiàn),但在未來幾年內,5G服務將主要通過Sub-6GHz(6GHz以下)頻段傳輸?shù)男盘杹矶x。為了實現(xiàn)這一點,下一代基站解決方案需要在射頻前端(RFFE)性能上進行顯著提升。

工程師們被要求開發(fā)的基站需要具備更好的RFFE集成、更小的尺寸、更低的功耗、更高的輸出功率、更寬的帶寬、更好的線性度以及更高的接收機靈敏度。除此之外,還需要滿足收發(fā)器、RFFE和天線之間更緊密的耦合要求。這是一項非常艱巨的任務。要滿足這些需求并成功實施大規(guī)模MIMO,唯一的方法是使用小型、高效且成本效益高的功率放大器,這些放大器可用于不斷擴展的天線陣列中。Sub-6大規(guī)模MIMO的功率放大技術。

運用Massive MIMO技術的AAU自20世紀90年代該技術進入市場以來,橫向擴散金屬氧化物半導體LDMOS)器件一直在射頻功率放大器領域占據(jù)主導地位,特別是在2GHz以下的頻段,因其成本低廉而廣受歡迎。其最大的競爭對手是砷化鎵(GaAs)放大器,后者更適合用于更高頻率,但功率傳輸水平較低,且成本更高。當2G數(shù)字移動網絡推出時,LDMOS在射頻基站市場中取得了主導地位,并一直保持至今。然而,隨著3G和4G網絡的引入,LDMOS功率放大器的功率效率水平并未達到前幾代的水平。盡管通過采用多赫蒂拓撲結構和包絡跟蹤技術提升了性能,但在2014年中國4G LTE部署期間,設備制造商和運營商開始轉向使用氮化鎵GaN)作為下一代射頻功率應用的半導體。與其他半導體相比,GaN是一項相對較新的技術,但它已成為高射頻、高功耗應用的首選技術,如遠距離信號傳輸或高端功率水平的應用——這使其非常適合用于Sub-6 5G基站。其高輸出功率、線性度和功率效率促使網絡設備原始設備制造商(OEM)從使用LDMOS技術的功率放大器轉向使用氮化鎵。如今,LDMOS技術仍在射頻基站市場中占據(jù)最大份額,但預計在5G大規(guī)模MIMO部署中,GaN將繼續(xù)取代其地位。

自20世紀90年代該技術進入市場以來,橫向擴散金屬氧化物半導體(LDMOS)器件一直在射頻功率放大器領域占據(jù)主導地位,特別是在2GHz以下的頻段,因其成本低廉而備受歡迎。其最大的競爭對手是砷化鎵(GaAs)放大器,后者更適合用于更高頻率,但功率傳輸水平較低,且成本更高。

當2G數(shù)字移動網絡推出時,LDMOS在射頻基站市場中取得了主導地位,并一直保持至今。然而,隨著3G和4G網絡的引入,LDMOS功率放大器的功率效率水平并未達到前幾代的水平。盡管通過采用多赫蒂拓撲結構和包絡跟蹤技術提升了性能,但在2014年中國4G LTE部署期間,設備制造商和運營商開始轉向使用氮化鎵(GaN)作為下一代射頻功率應用的半導體。

與其他半導體相比,GaN是一項相對較新的技術,但它已成為高射頻、高功耗應用的首選技術,如遠距離信號傳輸或高端功率水平的應用——這使其非常適合用于Sub-6 5G基站。其高輸出功率、線性度和功率效率促使網絡設備原始設備制造商(OEM)從使用LDMOS技術的功率放大器轉向使用氮化鎵。

GaN的性能優(yōu)勢

GaN的主要優(yōu)勢在于其更高的功率密度。這是由于其導帶和價帶之間的帶隙高于LDMOS技術,從而提供了更高的擊穿電壓和功率密度。這使得信號能夠以更高的功率傳輸,從而擴大基站的覆蓋范圍。

GaN功率放大器的高功率密度還實現(xiàn)了更小的封裝尺寸,減少了印刷電路板PCB)空間的需求。在給定區(qū)域內,系統(tǒng)設計人員可以產生比其他技術更多的功率。或者,對于給定的功率水平,系統(tǒng)設計人員可以縮小射頻前端(RFFE)的尺寸并降低成本。

這種更高的功率密度還允許GaN功率放大器在高達250華氏度的高溫下工作——這是硅基技術無法達到的水平。GaN改進的散熱性能簡化了系統(tǒng)的散熱片和冷卻需求,進一步減小了尺寸并降低了成本。鑒于移動網絡運營商(MNO)面臨的基礎設施支出巨大,更小、更便宜的設備將極大地推動5G在全國范圍內的普及。

GaN提高的功率效率也有助于降低基站運營成本。運營商希望最小化網絡功耗,并推動OEM設計系統(tǒng)效率和整體節(jié)能。為了滿足這一需求,工程師們越來越多地轉向GaN。在Doherty功率放大器配置中,GaN在100瓦輸出功率下達到了高達60%的平均效率,顯著降低了功耗巨大的大規(guī)模MIMO系統(tǒng)所需的能源。

GaN在高頻和寬帶寬下的效率也有助于縮小大規(guī)模MIMO系統(tǒng)的尺寸。盡管LDMOS放大器特性的改進允許頻率范圍高達4GHz,但基于GaN的放大器可以在高達100GHz的頻率下實現(xiàn)功率密度高達五倍的提升。更高的效率和輸出阻抗,以及更低的寄生電容,使得GaN器件更容易實現(xiàn)寬帶匹配和擴展到非常高的輸出功率。雖然毫米波應用更為明顯,但這也可以通過同時在多個頻段上傳輸來惠及Sub-6的運營商。運營商不需要多個窄帶無線電,他們只需要一個服務多個頻段的寬帶無線電平臺。GaN提供了實現(xiàn)這些系統(tǒng)所需的范圍和靈活性,同時還能夠輕松擴展到提供未來毫米波傳輸?shù)母哳l率。

這并不是說GaN總是適用于所有射頻功率應用。LDMOS通常價格更低,并在某些頻率下提供極具競爭力的線性度。GaAs在某些細分市場也具有自己的效率優(yōu)勢。然而,許多LDMOS領域的主要參與者轉向GaN生產是有原因的:他們認識到GaN對于幫助運營商和基站OEM實現(xiàn)Sub-6 GHz大規(guī)模MIMO目標至關重要。

由于GaN在基站中的廣泛應用,以及在國防和航空航天等其他行業(yè)的應用范圍不斷擴大,GaN的產量逐年增長。產量越多,規(guī)模經濟效應越明顯,使得GaN成為更經濟的解決方案。這還沒有考慮到提高能源效率、更小尺寸或多頻段應用所帶來的節(jié)省。線性度也有望得到改善。重要的是要記住,GaN在基站領域才第二代產品。像LDMOS這樣的成熟技術已經發(fā)展到第15代。目前,這是GaN領域最活躍的研究領域,導致業(yè)內許多人預計短期內將實現(xiàn)市場領先的線性效率。

隨著限制GaN更廣泛應用的因素得到解決,現(xiàn)在系統(tǒng)設計人員了解如何將這種半導體應用于自己的應用變得至關重要。

LDMOS VS GAN功放參數(shù)對比

參數(shù) GAN LDMOS
全稱 氮化鎵 橫向擴散金屬氧化物半導體場效應晶體管
最大頻率(Ghz) 30 GHz for GaN (50V) 22 GHz for LDMOS (28V)
15 GHz for LDMOS (50V)
功率密度(W/mm) 5-10 for GaN (50V) 0.8 for LDMOS (28V)
2 for LDMOS (50V)
P1db時候的效率(%) 70 for GaN (50V) 60 for LDMOS (28V)
<55 for LDMOS (50V)
帶寬(Mhz) 500-2500 for GaN (50V) 100-400 for LDMOS (28V)
100-500 for LDMOS (50V)
Cds (pF/ W)
輸出電容
1/4 smaller for GaN (50V) 0.23 for LDMOS (28V)
1/2 smaller for LDMOS (50V)
Cgs (pF/ W)
輸入電容
1/2 smaller for GaN (50V) 0.94 for LDMOS (28V)
1/2 smaller for LDMOS (50V)

 

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