光刻機

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光刻機（lithography）又名：掩模對準(zhǔn)曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

光刻機（lithography）又名：掩模對準(zhǔn)曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。收起

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  • Agent落地的“光刻機之問”：當(dāng)全行業(yè)緊盯“大腦”，誰在打造真正的基石？
    作者｜周一笑 郵箱｜zhouyixiao@pingwest.com 當(dāng)下的AI Agent領(lǐng)域，正上演著一幕“奇特”的景象，一方面，是關(guān)于Agent能力極限的狂熱探討；但另一方面，是當(dāng)這些光鮮的Agent從實驗室走向真實生產(chǎn)環(huán)境時的普遍“失速”與“沉寂”。 這之間巨大的落差，源于一個被行業(yè)集體選擇性忽視的“盲點”：我們癡迷于為Agent打造更聰明的“大腦”，卻忽略了為其提供一個穩(wěn)定、安全、可靠的“
    Agent落地的“光刻機之問”：當(dāng)全行業(yè)緊盯“大腦”，誰在打造真正的基石？
  • 光刻技術(shù)，走下 “神壇”
    “光刻將不再那么重要?！边@句話一出便在業(yè)界引起巨大爭議，這句話來源于英特爾的一位高管。光刻機，向來被視為半導(dǎo)體制造的命脈。但近期多家芯片巨頭釋放的信息顯示，未來光刻技術(shù)可能不再是唯一選擇，即便是很難搶到的High-NA EUV，也多處于“閑置”狀態(tài)。
    光刻技術(shù)，走下 “神壇”
  • 電子束光刻機將用于芯片量產(chǎn)？
    近日，一些媒體報道了英國部署電子束光刻機相關(guān)的新聞，并號稱打破ASML的EUV技術(shù)壟斷。部分報道甚至號稱這是全球第二臺電子束光刻機，能繞過ASML。實際上當(dāng)前沒有任何信息表面該電子束曝光機可以用于5nm制程的芯片量產(chǎn)的光刻環(huán)節(jié)。在這些媒體的報道中，英國似乎已經(jīng)拳打ASML，腳踢EUV了。那事實真的如此嗎？實際情況到底如何呢？
    電子束光刻機將用于芯片量產(chǎn)？
  • 揭秘ASML如何生產(chǎn)“天價光刻機”？
    在荷蘭一處大型實驗室的嚴(yán)密大門之后，一臺機器正徹底革新微芯片的制造模式 —— 這便是 ASML 耗時近十年研發(fā)的高數(shù)值孔徑（High NA）光刻機。這臺設(shè)備造價超 4 億美元，堪稱全球最先進、最昂貴的芯片制造設(shè)備。
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    05/27 08:46
    揭秘ASML如何生產(chǎn)“天價光刻機”？
  • 英特爾豪賭14A！全球首臺HighNA光刻機就位，臺積電慌了
    作為一個技術(shù)派CEO，陳立武上臺后以鐵血手腕頒布了一系列的改革措施，包括近兩萬人的裁員計劃、每個員工每周必須在辦公室工作四天、精簡內(nèi)部行政流程以及減少不必要的會議等，同時加快推進英特爾的技術(shù)研發(fā)進度，基本延續(xù)了前代CEO的做法。對于深陷危機的英特爾來說，代工業(yè)務(wù)和下一代制程工藝，能否成為翻盤的機會呢？
    英特爾豪賭14A！全球首臺HighNA光刻機就位，臺積電慌了
  • 春招進行時，ASML最新人才戰(zhàn)略解析
    對于此次春季招聘會，ASML中國區(qū)人力資源總經(jīng)理毛琴表示：“春季招聘會是從去年開始啟動的，主要是為了滿足ASML中國對人才的增長需求。目前公司在中國的員工數(shù)已達1900余名，對比過去5年的員工數(shù)量，已經(jīng)實現(xiàn)幾乎翻番。今年，ASML將繼續(xù)面向社會和高校開放多種類型的崗位，涵蓋支持工程師、軟件工程師、開發(fā)工程師、工藝工程師、維修等技術(shù)崗位，以及采購和服務(wù)等職能崗位?！?/div>
    春招進行時，ASML最新人才戰(zhàn)略解析
  • ASML、NIKON、CANON光刻機型號數(shù)據(jù)匯總（2025版）
    今天整理一個簡易版（省略部分過于專業(yè)的參數(shù)指標(biāo)）的光刻機型號匯總，供大家參考完整數(shù)據(jù)的原始EXCEL表格文件，我已經(jīng)放到了知識星球的云盤上供會員使用。
    ASML、NIKON、CANON光刻機型號數(shù)據(jù)匯總（2025版）
  • 如何提高光刻機的NA值？
    學(xué)員問：為什么光刻機希望有更好的NA值，為什么？怎樣提高？什么是NA值？如上圖是Asml PAS5000型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA，又名數(shù)值孔徑，是影響分辨率(R)，焦深（DOF）的重要參數(shù)，公式為
  • ASML，今年賣了多少光刻機？
    今年，ASML的High NA EUV光刻機成為設(shè)備新晉“頂流”。其數(shù)值孔徑（NA）從之前標(biāo)準(zhǔn) EUV 光刻機的 0.33 提升到了 0.55 ，鏡頭的分辨率從之前的13 nm提升到了 8 nm，能夠?qū)崿F(xiàn)2nm以下先進制程大規(guī)模量產(chǎn)。英特爾、臺積電、三星哪怕豪侈巨資也要拿下。
    ASML，今年賣了多少光刻機？
  • 深度丨EUV光刻機巨頭風(fēng)云爭奪戰(zhàn)
    各大巨頭在未來仍將圍繞High-NA EUV設(shè)備展開激烈競爭，爭相導(dǎo)入或宣布市場進展，預(yù)示著半導(dǎo)體行業(yè)將迎來新一輪技術(shù)革新。目前，英特爾、臺積電、三星、SK海力士等晶圓制造大廠已紛紛對High-NA EUV光刻機表現(xiàn)出強烈的關(guān)注與行動。
    深度丨EUV光刻機巨頭風(fēng)云爭奪戰(zhàn)
  • 無掩膜光刻機，微納加工的下一個答案？
    第十四屆中國國際納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)博覽會（簡稱“納博會”）在萬眾矚目中圓滿落下了帷幕。這場全球納米科技領(lǐng)域盛會，以1場主報告、13場分論壇、1場創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)大賽，1場新產(chǎn)品發(fā)布會為主，匯聚了全球納米科技領(lǐng)域的18位院士，450多位高校研究院所、上市公司、知名企業(yè)機構(gòu)的頂級專家代表出席，分享專業(yè)報告476場，較往屆增加132場，同比增長約33%，吸引9663位嘉賓參會聽會。
    無掩膜光刻機，微納加工的下一個答案？
  • 整整185種！ASML、NIKON、CANON御三家光刻機型號大全
    在所有半導(dǎo)體設(shè)備里，光刻機確實是一個最有話題熱度的門類了。我之前從ASML、NIKON、CANON三家的官網(wǎng)上下載收錄了他們目前銷售的光刻機型號，并匯總做成表格供大家參考，讀者反饋不錯。更有行業(yè)大佬寫文章時引用我的數(shù)據(jù)后更是給我的公眾號帶來一波巨大流量。
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    2評論
    2024/10/31
    整整185種！ASML、NIKON、CANON御三家光刻機型號大全
  • 全球光刻機市場競爭加劇，ASML財報引發(fā)關(guān)注
    近日，ASML發(fā)布最新三季度財報后，股價創(chuàng)26年來最大跌幅引起市場極大關(guān)注。在此期間，尼康和佳能陸續(xù)發(fā)布的光刻機研發(fā)最新進展也引起行業(yè)聚焦。
    全球光刻機市場競爭加劇，ASML財報引發(fā)關(guān)注
  • 為什么研發(fā)EUV光刻機那么難？
    雖然表面上看，光刻機是半導(dǎo)體制造的工具之一，但它的背后涉及復(fù)雜的多學(xué)科交叉與全球化合作。EUV光刻機依賴于波長僅為13.5納米的極端紫外線（EUV）光源，而這種光源的產(chǎn)生與控制是最大的技術(shù)挑戰(zhàn)之一。你可以把EUV光源想象成一個非常難以控制的“燈泡”，但這個“燈泡”不僅需要在超高真空環(huán)境下工作，還必須產(chǎn)生極其穩(wěn)定和強大的光束。任何微小的不穩(wěn)定都會影響最終的成像效果。
    為什么研發(fā)EUV光刻機那么難？
  • ASML阿斯麥業(yè)績“爆雷”，影響會波及多大？芯片需求真飽和了？
    日前，荷蘭光刻機企業(yè)阿斯麥公布業(yè)績“爆雷”，當(dāng)日股價大跌16.26%，創(chuàng)近26年來最大單日跌幅，拖累美股芯片股集體下挫，包括英偉達、AMD、英特爾等半導(dǎo)體企業(yè)都出現(xiàn)不同幅度的下跌。據(jù)悉，阿斯麥第三季度的訂單量僅達到分析師預(yù)期的一半左右，并下調(diào)了2025年的業(yè)績指引。
    2234
    2024/10/17
    ASML阿斯麥業(yè)績“爆雷”，影響會波及多大？芯片需求真飽和了？
  • 2024 CSEAC：半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化加速，競爭力在哪里？
    尊重知識產(chǎn)權(quán)和打造差異化競爭優(yōu)勢是中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)健康發(fā)展的關(guān)鍵。當(dāng)前，低價競爭導(dǎo)致的低毛利已成為行業(yè)發(fā)展的主要障礙，它削弱了設(shè)備企業(yè)的研發(fā)能力，阻礙了技術(shù)的迭代升級。半導(dǎo)體設(shè)備廠商需要維持40%-50%的毛利潤率，以確保持續(xù)的研發(fā)投入和技術(shù)創(chuàng)新。非法的設(shè)備翻新和抄襲行為不僅侵犯了知識產(chǎn)權(quán)，也不利于企業(yè)的長期發(fā)展。
    2024 CSEAC：半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化加速，競爭力在哪里？
  • 納米壓印，中國企業(yè)有哪些？
    歡迎關(guān)注硬科技的投資人和創(chuàng)業(yè)者加入“創(chuàng)道硬科技”平臺，微信riseen001
  • 聊聊國內(nèi)首臺重大技術(shù)裝備（2）
    上次，介紹了《首臺（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》中介紹的硅外延爐，濕法清洗機，氧化爐，見文章：《聊聊國內(nèi)首臺重大技術(shù)裝備（1）》 這次來解讀一下目錄中提到的勻膠顯影機，光刻機及離子注入機。
  • 聊聊光刻機的原理、現(xiàn)狀與未來
    光刻機是半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備，相當(dāng)于芯片制造工藝的“印刷機”，它的精度直接影響芯片的制程和性能。根據(jù)不同光源類型，光刻機可以分為UV（紫外線）、DUV（深紫外線）和EUV（極紫外線）三大類。光刻機的分辨率主要由兩個參數(shù)決定：光源的波長（λ）和物鏡系統(tǒng)的數(shù)值孔徑（NA）。簡單來說，波長越短、數(shù)值孔徑越大，光刻機的分辨率就越高。
    聊聊光刻機的原理、現(xiàn)狀與未來

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