光刻

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光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔，以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。

光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔，以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。收起

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  • 光刻工藝中為什么正膠比負膠使用較多？
    在現(xiàn)代集成電路制造中，正光刻膠（Positive Photoresist）是絕對的主流選擇，尤其在先進制程（如 28nm、16nm、7nm 及以下）中，絕大多數(shù)關鍵層都使用正光刻膠。
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    03/24 10:50
    光刻工藝中為什么正膠比負膠使用較多？
  • 對話北京理工大學特聘教授李艷秋：歐、美、日光刻技術研發(fā)均由政企研學聯(lián)合促進
    芯片生產主要包括沉積、光刻、蝕刻等步驟，其中光刻是半導體芯片生產中最關鍵一環(huán)，主要負責把芯片設計圖案通過光學顯影技術轉移到芯片表面，進而實現(xiàn)在半導體晶片表面上制造微小結構。光刻機生產具備高技術門檻，需要高度精度設備和嚴格的控制流程，以達到所需的制造精度。而先進的芯片制程工藝需要先進的、高分辨率的光刻機，因此光刻機直接影響芯片的工藝制程與性能。
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  • 攻克關鍵技術 東方晶源ILT技術劍指先進制程
    計算光刻作為現(xiàn)代芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心技術之一，其發(fā)展經歷了從規(guī)則導向到模型驅動的轉變。然而，隨著制程邁向7nm乃至5nm節(jié)點，傳統(tǒng)方法因規(guī)則局限、優(yōu)化自由度不足等制約，難以滿足復雜芯片設計的高要求。在此背景下，反向光刻技術（ILT）以其獨特的優(yōu)化思路應運而生。 ILT即從目標芯片圖案出發(fā)，逆向推導獲得最優(yōu)化掩模圖案，極大地提升優(yōu)化的靈活性和精準度，更能滿足先進制程對圖形精度的苛刻需求。因此，在探
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  • SPIE國際會議上的中國面孔 貢獻國產半導體檢測量測“智慧”
    日前，第49屆SPIE Advanced Lithography + Patterning會議在美國加州圣何塞拉開帷幕。作為半導體行業(yè)關于光刻和圖形成型技術最具影響力的國際會議，本屆大會吸引了來自全球各地的專家、學者，帶來近600篇論文，涉及極紫外光刻、新型圖形技術、微光刻的計量、檢驗和過程控制等六大領域。 SPIE（International Society for Optical Engine
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  • 深入光刻領域：揭秘芯片制造行業(yè)的職業(yè)新機會
    多年以后，當每一個ICer站在職業(yè)生涯的路口，將會想起2023這一載入半導體行業(yè)史冊的一年。“裁員”、“降薪”、“解散”成了今年的主旋律，而過去幾年隨著芯片設計從業(yè)者的快速增加，內卷似乎也越來越嚴重。當芯片行業(yè)的種種亂象接踵而至時，我們也應該仔細審視，到底什么才是這個行業(yè)真正需要的？到底什么才是有價值的？IC設計是不是畢業(yè)生唯一的出路？想逃離內卷，我還能在芯片行業(yè)挖掘到哪些新的職業(yè)機會？
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  • 什么是電子增材制造(EAMP? )？｜一種得益于新材料的加成法電子制造工藝
    現(xiàn)代電子制造生產工藝，主要分為：加成法、減成法與半加成法，目前以減成法為主。減成法工藝采用減材制造原理，通過光刻、顯影、刻蝕等技術將不需要的材料去除，形成功能材料圖形結構，這種工藝已經比較成熟。然而，隨著環(huán)保和成本等因素的重視，減成法也逐漸暴露出一些不足之處，比如污染排放和原材料損失等問題。相較之下，以增材制造技術為核心的加成法工藝將有望改善這些問題。 增材制造是一種快速成型技術，通過材料逐步堆積
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  • ASML中國宣布2023年“光之宇宙”年度人才計劃
    今天，半導體行業(yè)的領先供應商阿斯麥（ASML）在上海舉辦了人才戰(zhàn)略分享活動，并公布其2023年“光之宇宙”年度人才計劃。在半導體行業(yè)人才緊缺的大環(huán)境下，ASML中國區(qū)人力資源總監(jiān)王洪瑞在分享會上重申ASML對人才始終如一的重視，以及對人才建設的持續(xù)投入。 根據(jù)4月份發(fā)布的2023年第一季度財報，ASML在該季度實現(xiàn)凈銷售額67億歐元，毛利率為50.6%，凈利潤達20億歐元。ASML預計2023年仍
  • 做了三年核酸，你知道核酸檢測用的“芯片”嗎？
    每天起床第一句，先去樓下做核酸。 核酸檢測，可能是近兩年來我們參與頻率最高的集體活動。疫情期間，我們除了每天要在通勤路上消耗掉寶貴的時光，偶爾還要在核酸檢測點前排出一條長龍。即使做完了核酸，等待結果的過程也讓我們憑空多了份焦慮。慢，成為了核酸檢測摘不掉的標簽；等，也成為了我們的生活常態(tài)。 核酸檢測 ?圖源：頭條蘇州 不過進入12月以來，全國疫情防控力度逐漸降低，核酸檢測這項活動在我們生活動占的比例
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    2022/12/14
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  • 揭秘半導體制造全流程（上篇）
    當聽到“半導體”這個詞時，你會想到什么？它聽起來復雜且遙遠，但其實已經滲透到我們生活的各個方面：從智能手機、筆記本電腦、信用卡到地鐵，我們日常生活所依賴的各種物品都用到了半導體。
  • 集成電路新政解讀
    其中深意不言而喻，集成電路產業(yè)已經上升到國家核心戰(zhàn)略層面，尤其是在全球動蕩的國際關系下，產業(yè)全面國產化已經被提上日程。
  • 淺談瓦森納安排的修訂之計算光刻軟件
    光刻（lithography）是集成電路制造中最重要的步驟，是目前最主要的在晶圓上制作亞微米和納米精度圖形的技術。
  • 一文看懂 | 芯片是怎么來的？
    從無到有，從方案到工藝圖，從一粒沙子到一顆芯片，都經歷了些什么？跟著與非網來了解一下吧。
  • ESOL 研發(fā)新能 EUV 光刻，韓國有望擺脫對日依賴？
    與非網9月17日訊，今年8月8日，日本解禁一批對韓出口半導體材料，其中包括對7nm先進制程至關重要的EUV光刻膠。韓國的半導體遭受到了重擊，因為韓國半導體材料有80%左右是從日本進口的，而像三星、SK海力士據(jù)說庫存只有堅持2、3個月。
  • EUV、光刻膠、計算光刻等先進光刻技術的桎梏和突破
    20世紀以來，在光學光刻技術努力突破分辨率“極限”的同時，國內外相關企業(yè)、機構都正在積極研究，包括EUV光刻技術，電子束光刻技術，計算光刻等內容方向。
  • 中科大與中芯國際合作，要在光刻領域搞出啥事？
    近日，中國科學院大學微電子學院與中芯國際集成電路制造有限公司在產學研合作中取得新進展，成功在光刻工藝模塊中建立了極坐標系下規(guī)避顯影缺陷的物理模型。
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    1評論
    2018/06/07
  • 庫力索法未來的市場與機遇，存儲器和汽車電子雙管齊下
    庫力索法首席法務黃曉麟表示：“庫力索法蘇州工廠是公司在全球最大的工廠，去年貢獻了整體營收的50%。目前來看，中國是世界上IC產業(yè)發(fā)展最快的國家，這就是為什么我們要在蘇州建立一個展示中心，以促進我們和客戶之間更便利的合作?！?/div>
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    2018/03/26
  • e世繪︱一份臺積電的預測，讓這些半導體設備廠商的2017年充滿懸念？
    臺積電是全球規(guī)模最大的純代工廠，最近降低了公司2017年代工業(yè)務的營收預期。臺積電目前正在致力于實現(xiàn)到2018年全面使用EUV光刻技術生產7nm芯片，這將對設備廠商在2017年的沉積和蝕刻設備銷售造成明顯的影響。
  • 5nm工藝到底有多少實現(xiàn)的可能，實現(xiàn)了又有什么意義
    工藝路徑應該怎么繼續(xù)往下走呢？代工廠可以把FinFET晶體管繼續(xù)做到7nm，再往下的5nm就懸了，也許永遠做不到5nm也未可知。確實如此，5nm節(jié)點前面橫亙著若干技術和經濟上的挑戰(zhàn)，而且即使能夠實現(xiàn)5nm，它也會相當昂貴，只有少數(shù)公司能夠用得起，這將把5nm芯片限制在很窄的應用范圍內。
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    1評論
    2016/02/01
  • 光刻
    光刻是一種關鍵的微制造技術，廣泛應用于半導體工業(yè)、集成電路制造、光學元件制備等領域。通過利用光照、顯影和蝕刻等步驟，在光敏性材料上形成復雜的圖案和結構。
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    2024/10/28

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