半導(dǎo)體 | 疫情之下，ASML用MR遠(yuǎn)程指揮生產(chǎn)設(shè)備安裝

CINNO Research 產(chǎn)業(yè)資訊，根據(jù)日媒 Monoist 報(bào)道，SEMI（國際半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備材料協(xié)會(huì)）于 2020 年 8 月 25 日舉行了“第六屆 SEMI Japan Webinar”。ASML Japan 的代表董事社長藤原祥二郎先生和 ASML Japan 的技術(shù)市場總監(jiān)森崎健史先生以《How ASML cope with COVID-19, and ASML EUV industrialization update》為主題，介紹了疫情之下的業(yè)務(wù)環(huán)境、EUV（極紫外光刻）曝光設(shè)備的研發(fā)和導(dǎo)入情況。

疫情之下、ASML 發(fā)展良好

在半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備行業(yè)，5G、IoT 相關(guān)元件帶動(dòng)半導(dǎo)體需求持續(xù)穩(wěn)健增長。盡管新冠肺炎限制了半導(dǎo)體人員的流動(dòng)，在遠(yuǎn)程辦公等因素的帶動(dòng)之下，數(shù)據(jù)中心快速發(fā)展，半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備行業(yè)幾乎未受到疫情影響，保持持續(xù)增長。

就新冠肺炎對業(yè)務(wù)的影響情況，藤原先生表示：“中國客戶的出貨受到了延誤，此外新型曝光設(shè)備【NXE:3400C】因供應(yīng)鏈的影響而被推遲發(fā)售。此外，也有不進(jìn)行出貨前的最終檢查就出貨的情況”。但是，幾乎沒有對業(yè)績造成影響，在 2020 年 7 月公布的 2020 財(cái)年第二四半期（4 月 -6 月）財(cái)報(bào)中，銷售額去年同比增長約 30%。年度業(yè)績預(yù)計(jì)也會(huì)也十分順利，“整年的業(yè)績預(yù)計(jì)會(huì)出現(xiàn)兩位數(shù)的增長”（藤原先生）。

分解 ASML 的第一季度、第二季度業(yè)績后的明細(xì)（圖片來源：ASML）

運(yùn)用 MR 設(shè)備遠(yuǎn)程支援半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備的啟動(dòng)、改造

盡管曝光設(shè)備的業(yè)務(wù)訂單不少，但是由于新冠肺炎限制人員流動(dòng)，無法為客戶導(dǎo)入和安裝，導(dǎo)致 ASML 無法派出熟練技術(shù)人員到客戶處。于是，ASML 開始強(qiáng)化遠(yuǎn)程支援以應(yīng)對新冠肺炎事件。

ASML 的熟練技術(shù)員與現(xiàn)場的佩戴了 HoloLens 的作業(yè)員連線，指揮現(xiàn)場作業(yè)員安裝、改造設(shè)備等作業(yè)的情景（圖片來源：ASML）

運(yùn)用 MR 設(shè)備進(jìn)行遠(yuǎn)程支援的系統(tǒng)構(gòu)成要素（圖片來源：ASML）

3 納米曝光設(shè)備的技術(shù)藍(lán)圖

實(shí)際上 ASML 正在擴(kuò)大導(dǎo)入名為“NXE 系列”的 EUV 曝光設(shè)備，從各季度來看、銷售數(shù)量呈增長趨勢。ASML 在 2020 年第一季度導(dǎo)入了 57 臺，第二季度達(dá) 66 臺。據(jù)說用 EUV 生產(chǎn)的晶圓數(shù)量也累計(jì)達(dá)到 1,100 萬個(gè)。森崎先生表示：“雖然人們認(rèn)為 EUV 曝光設(shè)備是屬于未來的，其實(shí)它已經(jīng)步入了可以作為實(shí)際產(chǎn)品使用的階段”。

另一方面，其實(shí) EUV 曝光設(shè)備也存在很多課題，其中最大的問題是穩(wěn)定性。森崎先生指出，排在前 10%的設(shè)備的生產(chǎn)率為 90%左右，所有設(shè)備的平均生產(chǎn)率為 85%左右，排在后面 10%的設(shè)備的生產(chǎn)率差異更大。據(jù)說客戶的普遍呼聲是“希望設(shè)備能運(yùn)作的更順暢一些”。為了減少設(shè)備之間的差異，ASML 正在努力使生產(chǎn)率的平均值達(dá)到 90%以上。不僅要提高單個(gè)設(shè)備、零部件的精度，也要推進(jìn)光源模組的升級、研發(fā)持續(xù)供錫的構(gòu)造等。據(jù)說 ASML 也在推進(jìn)減少設(shè)備的停機(jī)時(shí)間、增加稼動(dòng)時(shí)間。

ASML 的 EUV 曝光設(shè)備的導(dǎo)入數(shù)量、生產(chǎn)率的推移（圖片來源：ASML）

此外，當(dāng)下正在推進(jìn)的“NXE 系列”的光學(xué)開口率（NA）為 0.33，主要面向 7 納米和 5 納米。在 ASML 實(shí)現(xiàn) 3 納米過程中，由于利用現(xiàn)有技術(shù)無法再提高分辨率，因此正在籌備開口率為 0.55 的“HiNA”產(chǎn)品產(chǎn)線。已經(jīng)完成了設(shè)計(jì)，正在進(jìn)行具體研發(fā)。開口率為 0.55 的產(chǎn)品被命名為“EXE 系列”，用于 R&D 的出貨預(yù)計(jì)在 2022 年，量產(chǎn)出貨預(yù)計(jì)在 2024 年。

森崎先生解釋了“0.55 NA Platform”的意義，“可以簡化工藝、提高性能，與多重圖案（Multi-patterning）相比，可削減 50%的成本”。

“0.55 NA Platform”可獲得的價(jià)值（圖片來源：ASML）

各代 EUV 基建整備情況，圖中為部分供應(yīng)商、非全部（圖片來源：ASML）