光罩

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光罩（英文：Reticle, Mask），在制作IC的過(guò)程中，利用光蝕刻技術(shù)，在半導(dǎo)體上形成圖型，為將圖型復(fù)制於晶圓上，必須透過(guò)光罩作用的原理，類似于沖洗照片時(shí)，利用底片將影像復(fù)制至相片上。

光罩（英文：Reticle, Mask），在制作IC的過(guò)程中，利用光蝕刻技術(shù)，在半導(dǎo)體上形成圖型，為將圖型復(fù)制於晶圓上，必須透過(guò)光罩作用的原理，類似于沖洗照片時(shí)，利用底片將影像復(fù)制至相片上。收起

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  • 光罩國(guó)產(chǎn)化：五年變了天地
    自2020年以來(lái)，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的國(guó)產(chǎn)化水平得到了飛速地提升，近日由工信部站臺(tái)推廣的ArF干式光刻機(jī)便是一例。同樣在光刻材料的國(guó)產(chǎn)化中，光罩的國(guó)產(chǎn)化也十分引人矚目?？梢哉f(shuō)在這五年里，中國(guó)大陸地區(qū)的本土光罩廠走過(guò)了從邊緣到核心，從0.13微米到14納米的蛻變和進(jìn)化。
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