刻蝕設備

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刻蝕設備的發(fā)展和光刻技術,互連技術密切相關。High K / Low K材料,銅互連,Metal Gate,double Pattern等技術的發(fā)展都對刻蝕設備提出了新的需求·

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    據可靠業(yè)內人士透露,臺積電南京廠已向中微半導體設備(上海)股份有限公司下單采購?10 臺 5nm 介質刻蝕機,這些設備預計于 2026 年第一季度正式交付。 作為全球最大的晶圓代工廠商,臺積電在芯片制造領域一直處于行業(yè)領先地位,對設備供應商的技術實力、產品質量與穩(wěn)定性有著極為嚴苛的要求。中微公司此次能夠成功打入臺積電 5nm 制程供應鏈,背后是多年來持續(xù)不斷的技術創(chuàng)新與研發(fā)投入。早在 2018 年
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