北方華創(chuàng)、中微公司、青禾晶元半導體設備新動態(tài)

隨著全球半導體晶圓廠持續(xù)擴產建能，上游半導體設備廠商迎來了廣闊的市場空間，國內廠商也不例外。由于國際形勢變化以及國內部分半導體市場需求強勁，國內半導體設備廠商正積極抓住機遇，加大力度布局技術與市場。近期，北方華創(chuàng)、中微公司、青禾晶元三家設備廠商迎來新動態(tài)。

01、北方華創(chuàng)：擬取得芯源微的控制權

3月10日晚間，北方華創(chuàng)發(fā)布的公告顯示，該公司計劃通過“兩步走”戰(zhàn)略取得芯源微的控制權。

北方華創(chuàng)首先擬從芯源微第二大股東沈陽先進制造技術產業(yè)有限公司（以下簡稱“先進制造”）收購1906.49萬股芯源微股份，每股作價88.48元，交易對價約16.87億元。

與此同時，芯源微的第三大股東沈陽中科天盛自動化技術有限公司（簡稱“中科天盛”）擬通過公開征集轉讓其持有的全部1689.97萬股芯源微股份，占總股本8.41%，北方華創(chuàng)將積極參與此次公開掛牌競買，若成功，將實現(xiàn)對芯源微的控制權獲取。

資料顯示，北方華創(chuàng)的主要產品包括刻蝕、薄膜沉積、爐管、清洗、快速退火和晶體生長等核心工藝裝備，芯源微的主要產品包括涂膠顯影設備等核心工藝裝備。北方華創(chuàng)指出，雙方同屬集成電路裝備行業(yè)，但產品布局有所不同，具有互補性，有利于雙方協(xié)同效應的發(fā)揮。

業(yè)界認為，北方華創(chuàng)對芯源微的收購意義重大，一方面，通過收購芯源微，北方華創(chuàng)能夠完善其在半導體設備領域的產品線布局，尤其是在光刻工序配套設備方面，形成協(xié)同效應，并增強市場競爭力；另一方面，借助北方華創(chuàng)的資金、技術和市場資源，芯源微有望加速技術研發(fā)與市場拓展。

02、中微公司：刻蝕設備反應臺全球出貨超5000臺

3月12日，中微公司宣布其等離子體刻蝕設備反應總臺數(shù)全球累計出貨超過5000臺，涉及CCP高能等離子體刻蝕機和ICP低能等離子體刻蝕機、單反應臺反應器和雙反應臺反應器共四種構型的設備。

中微公司介紹，等離子體刻蝕機，是光刻機之外，最關鍵的、也是市場最大的微觀加工設備。由于微觀器件越做越小和光刻機的波長限制，也由于微觀器件從二維到三維發(fā)展，刻蝕機是半導體設備過去十年增長最快的市場。

中微公司不斷拓展等離子體刻蝕設備產品線，以滿足先進的芯片器件制造日益嚴苛的技術需求。中微公司的等離子體刻蝕設備不斷擴大市場占有率，其中，CCP設備在線累計裝機量近四年年均增長大于37%，已突破4000個反應臺；ICP設備在線累計裝機量近四年年均增長大于100%，已突破1000個反應臺。

截至2025年2月底，公司累計已有超過5400個反應臺在國內外130多條生產線，全面實現(xiàn)了量產和大規(guī)模重復性銷售。中微公司表示，這一重要里程碑標志著公司在等離子體刻蝕設備領域持續(xù)得到客戶與市場的廣泛認可，并彰顯了公司在等離子體刻蝕領域已進入國際前列。

03、青禾晶元：全球首發(fā)C2W&W2W雙?；旌湘I合設備

3月11日，青禾晶元發(fā)布全球首臺獨立研發(fā)C2W&W2W雙模式混合鍵合設備SAB 82CWW系列，助力先進封裝技術發(fā)展，并有望在存儲器、Micro-LED顯示、CMOS圖像傳感器、光電集成等領域得到應用。

隨著制程工藝不斷逼近物理極限，傳統(tǒng)制程微縮面臨諸多挑戰(zhàn)?；旌湘I合技術可以在三維空間重構芯片架構，實現(xiàn)“功能拼圖”式的性能躍升，為延續(xù)摩爾定律和超越摩爾定律提供了發(fā)展路徑。

青禾晶元SAB 82CWW系列設備采用一體化設備架構，將C2W和W2W兩種技術路線從“非此即彼”變?yōu)椤皡f(xié)同進化”，從而提高了設備的通用性和靈活性，并為客戶提供了更大的選擇空間。

同時，該設備可兼容8寸和12寸晶圓，滿足不同尺寸晶圓的鍵合需求。

芯片處理能力上，設備可處理厚度最薄至35μm的超薄芯片，同時具備全尺寸兼容性，從0.5×0.5mm到50×50mm的芯片均可處理。

另外，C2W和W2W鍵合技術實現(xiàn)±30nm的對準精度和±100nm的鍵合精度，C2W單鍵合頭UPH最高可達1000片/小時。

04、結 語

通過技術創(chuàng)新、市場拓展和產業(yè)鏈整合，國內半導體設備廠商有望進一步提升市場競爭力，推動半導體設備的國產化進程，為全球半導體產業(yè)的繁榮發(fā)展貢獻中國力量。